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Trifluorure d'azote (NF₃) : une importante expansion des capacités témoigne d'une croissance de la demande
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Oxyde d'éthylène (OE) — La demande de gaz de stérilisation augmente avec le développement du secteur de la santé ; les prix restent stables en raison d'une offre abondante.

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Fluorure de sulfuryle (SO₂F₂) — La demande de gaz de fumigation augmente à mesure que les normes mondiales de stockage et de quarantaine des céréales se durcissent

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Dioxyde de soufre (SO₂) — Le marché mondial atteindra 74,88 milliards de RMB en 2025 ; la demande de gaz d’étalonnage augmente avec la réglementation environnementale.

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Hélium — Un conflit géopolitique anéantit 30 % de la capacité mondiale ; les prix explosent (plus de 5 fois en un mois)

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Néon : une flambée des prix de 1 500 à 2 000 % déclenche une alerte concernant la chaîne d’approvisionnement des semi-conducteurs.

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Xénon — Prix bas et offre abondante contrastent avec la crise de l'hélium, alors que les marchés des gaz rares divergent

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Perfluoropropane (octafluoropropane, C₃F₈) — Les prix de qualité électronique ont été multipliés par 3,5 en raison de l'explosion de la demande pour le nettoyage et la gravure des semi-conducteurs.

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Trifluorure d'azote (NF₃) : une importante expansion des capacités témoigne d'une croissance de la demande

2026-03-24

InvestissementNONdéliciment :Gaz Heyuan du Hubei CoLa société ., Ltd. a annoncé le 3 mars 2026 un développement important dans le domaine des gaz spéciaux pour l'électronique, prévoyant d'investir684 millions de yensagrandir son parc industriel de gaz spéciaux et de matériaux fonctionnels électroniques de Yichang avec un4 500 tonnes/an de qualité électronique trifluorure d'azote (NF₃) projet.

Structure du projet :L'agrandissement sera réalisé en deux phases sur trois ans :

  • Phase I: 3 000 tonnes/an NF₃ installation de production, systèmes de stockage et de remplissage, et infrastructures de soutien

  • Phase II1 500 tonnes/an NF₃ (combinée à l'installation existante de 500 t/an pour atteindre une capacité totale de 2 000 t/an)

Application du produit :Niveau électronique trifluorure d'azote est un excellent gaz de gravure plasma largement utilisé dans la fabrication de microélectronique, offrant des vitesses de gravure et une sélectivité avantageuses. Il est essentiel pour :

  • Production de semi-conducteurs

  • fabrication d'écrans plats

  • Fabrication de cellules photovoltaïques

Projections financières :Selon l'étude de faisabilité, le projet présente un taux de rentabilité estimé à24,50%avec une période de retour sur investissement de5,27 ans(après impôts, période de construction comprise) .

Contexte stratégique :Cette extension s'appuie sur l'infrastructure existante du parc industriel couvrant 880 mu (environ 58,7 hectares), qui produit divers gaz spéciaux pour l'électronique, notamment :

Dispositifs de sécurité :Le projet comprend une automatisation avancée avec un système de contrôle distribué (DCS) intégré à des détecteurs de gaz combustibles et toxiques dans toute l'installation, permettant une surveillance en temps réel avec des capacités d'ajustement automatique lorsque les conditions de fonctionnement deviennent anormales.